Odaklanmış İyon Demeti (FIB)

Zeiss Crossbeam 540

Sistem ile aynı zamanda Odaklanmış İyon Demeti (FIB) ile TEM numunesi hazırlama, nano boyutta öğütme (etching) ve hem elektron demeti litografi hemde iyon demeti litografi ile nano fabrikasyon çalışmaları yapılabilmektedir.

Genel Bilgiler

En ileri seviye taramalı elektron mikroskobu (SEM) ve Odaklanmış İyon Demeti (FIB) tekniklerini, dedektörler ve manipilatör ile kombine etmektedir. Araştırma merkezlerinde yalıtkan, yarı- iletken ve iletken numuneler için eşsiz SEM çözünürlüğü (1 nm) ile malzemelerin 2D ve 3D karakterizasyonunda ve EDXS sistemi ile elementel analiz için kullanılabilmektedir.

Bunlara ek olarak taramalı geçirimli elektron mikroskobu (STEM) modu ile 0.5 nm çözünürlüğe kadar görüntüler alınabilmektedir.

Yüksek Hassasisyet

Sistemde inlens, BSE, SE, EDAX, STEM, EBIC, ESB dedektörleri bulunmaktadır ve numunelerin 3D tomografisi çıkarılabilmektedir.

Nanofabrikasyon

Elektron ve iyon demeti litografi teknikleri ile nanofabrikasyon çalışmaları yapılabilmektedir.

Çoklu GIS

Sistemde çöktürme, yalıtım ve istenilen bölgeleri dağlamak için çoklu GIS sistemi (Pt, Au, XeF2,SiOx) bulunmaktadır.

TEM Numune Hazırlama

Geçirimli elektron mikroskobu (TEM) için numune hazırlanabilmektedir.

4 Mikro Manipülatör

Elektronik çip, nano partikül, nano tüp, nano fiber, nano rod gibi numuneler üzerinde elektriksel ölçüm yapabilmek için 4 farklı mikro manipülatör bulunmaktadır.

brosur-fib