Loading...

VAKSIS Sputter

Reaktif Saçtırma Metodu vakum altında yüksek kalitelere sahip olan ince filmlerin elde edilmesinde kullanılan önemli bir metottur.

Genel Bilgi

Reaktif Saçtırma Metodu vakum altında yüksek kalitelere sahip olan ince filmlerin elde edilmesinde kullanılan önemli bir metottur. Katot saçtırma işleminde hedefin yüksek enerjili Ar iyonlarıyla bombardıman edilmesi ile yüzeyden atom sökülmesi ile ince filmler elde edilmektedir.

“Reaktif saçtırma” ile Metal, Metal Oksit, Metal Nitrür ince filmleri elde edilebilmektedir.

Üçlü Saçtırma

3 tane 2″ saçtırma tabancasına sahiptir ve üçüde aynı anda kullanılabilmektedir. Ayrıca; 300W’lık 2xRF güç kaynağı, 1500Watt 1xDC güç kaynağına sahiptir.

1×10-7Torr Taban Basınç

Sistem tam yüklü iken 1×10-7 Torr “taban basıç” seviyesi, 20 dakikada 5×10-6 Torr vakum seviyesine düşebilmektedir.

Argon, Neon ve Oksijen

Ar, N2 ve O2 üç adet gaz bağlıdır. Ayrıca; LN2 “cold finger” bulunmaktadır.

600°C

600°C örnek alttaş, döndürme ve PID ısıtma birimi, ±1°C sıcaklık kontrolü vardır. Ayrıca; 4” numuneyi en az 600°C ye ısıtabilecek ve %5 oranında düzgünsüzlük ile kaplayabilmektedir.

In-Situ

İki kanal, in-situ kalınlık ölçer mevcuttur.

Teknik Özellikler

1×10-7Torr

Eşzamanlı 3×2″

300W’lık 2xRF güç kaynağı, 1500 Watt 1xDC