Sistem ile aynı zamanda Odaklanmış İyon Demeti (FIB) ile TEM numunesi hazırlama, nano boyutta öğütme (etching) ve hem elektron demeti litografi hemde iyon demeti litografi ile nano fabrikasyon çalışmaları yapılabilmektedir.
En ileri seviye taramalı elektron mikroskobu (SEM) ve Odaklanmış İyon Demeti (FIB) tekniklerini, dedektörler ve manipilatör ile kombine etmektedir. Araştırma merkezlerinde yalıtkan, yarı- iletken ve iletken numuneler için eşsiz SEM çözünürlüğü (1 nm) ile malzemelerin 2D ve 3D karakterizasyonunda ve EDXS sistemi ile elementel analiz için kullanılabilmektedir.
Sistem ile aynı zamanda Odaklanmış İyon Demeti (FIB) ile TEM numunesi hazırlama, nano boyutta öğütme (etching) ve hem elektron demeti litografi hemde iyon demeti litografi ile nano fabrikasyon çalışmaları yapılabilmektedir.
Bunlara ek olarak taramalı geçirimli elektron mikroskobu (STEM) modu ile 0.5 nm çözünürlüğe kadar görüntüler alınabilmektedir.
Sistemde inlens, BSE, SE, EDAX, STEM, EBIC, ESB dedektörleri bulunmaktadır ve numunelerin 3D tomografisi çıkarılabilmektedir.
Elektron ve iyon demeti litografi teknikleri ile nanofabrikasyon çalışmaları yapılabilmektedir.
Sistemde çöktürme, yalıtım ve istenilen bölgeleri dağlamak için çoklu GIS sistemi (Pt, Au, XeF2,SiOx) bulunmaktadır.
Geçirimli elektron mikroskobu (TEM) için numune hazırlanabilmektedir.
Elektronik çip, nano partikül, nano tüp, nano fiber, nano rod gibi numuneler üzerinde elektriksel ölçüm yapabilmek için 4 farklı mikro manipülatör bulunmaktadır.
Schottky Thermal Field Emitter
HD BSD
50 ns/pixel
0.02-30 kV
10× – 1.000.000×
4 pA – 20 nA (40 nA & 100 nA Option)
2 – 133 Pa
