Hızlı Isıl İşlem Sistemi malzemelerin, vakum ortamında veya istenilen gaz altında hızlı ve sıcaklığa duyarlı bir şekilde yüksek sıcaklıklarda tavlanmasını, devamında istenilen şartlara göre yavaş veya hızlı soğutulması için kullanılabilir.
Tavlama işlemi ile metallerin mekanik özelliklerini iyileştirmek, bir yarıiletken malzemenin kristalleşmesini sağlayarak elektrik, optik vb. özelliklerini istenilen düzeye getirmek, malzemede istenmeyen atom veya molekülleri buharlaştırarak kusurlardan arındırmak, gıdalarda zararlı mikroorganizmaları etkisiz hale getirmek ve gıdaların dayanıklılığını artırmak için kullanılan ve daha bir çok farklı amaç için tercih edilen bir metotdur.
Hızlı Isıl İşlem Sistemi malzemelerin, vakum ortamında veya istenilen gaz altında hızlı ve sıcaklığa duyarlı bir şekilde yüksek sıcaklıklarda tavlanmasını, devamında istenilen şartlara göre yavaş veya hızlı soğutulması için kullanılabilir.
Sistemin sıcaklığı saniyede 1-150°C aralıklarla 1200°C’ye çıkabilir.
Sistemde 18 adet tungsten lamba bulunmaktadır.
Vakum seviyesi 7.5×10-4 Torr ulaşabilir.
Soğutma azot veya hava vererek yapılabilmektedir.
Vakum ortamında veya Ar, O2, N2 ve forming gazları akışında tavlama işlemi yapılabilmektedir.
100 mm dia. or 100 mm x 100 mm
Bölme Materyali:
Quartz glass chamber
Bölme Yüksekliği:
10 mm
Up to 10-3 hPa
110 mm x 110 mm x 11 mm (W x D x H)
1200°C (≤ 1,5% of set temperature)
Ramp up rate
Up to 150 K/sec
Ramp down rate
T= 1200°C > 400°C: 200 K/min, T= 400°C > 100°C: 30 K/min
