VAKSIS Sputter
Reaktif Saçtırma Metodu vakum altında yüksek kalitelere sahip olan ince filmlerin elde edilmesinde kullanılan önemli bir metottur.
Genel Bilgiler
Reaktif Saçtırma Metodu vakum altında yüksek kalitelere sahip olan ince filmlerin elde edilmesinde kullanılan önemli bir metottur. Katot saçtırma işleminde hedefin yüksek enerjili Ar iyonlarıyla bombardıman edilmesi ile yüzeyden atom sökülmesi ile ince filmler elde edilmektedir.
“Reaktif saçtırma” ile Metal, Metal Oksit, Metal Nitrür ince filmleri elde edilebilmektedir.
Üçlü Saçtırma
3 tane 2″ saçtırma tabancasına sahiptir ve üçüde aynı anda kullanılabilmektedir. Ayrıca; 300W’lık 2xRF güç kaynağı, 1500Watt 1xDC güç kaynağına sahiptir.
1×10-7Torr Taban Basınç
Sistem tam yüklü iken 1×10-7 Torr “taban basıç” seviyesi, 20 dakikada 5×10-6 Torr vakum seviyesine düşebilmektedir.
Argon, Azot ve Oksijen
Ar, N2 ve O2 üç adet gaz bağlıdır. Ayrıca; LN2 “cold finger” bulunmaktadır.
600°C
600°C örnek alttaş, döndürme ve PID ısıtma birimi, ±1°C sıcaklık kontrolü vardır. Ayrıca; 4” numuneyi en az 600°C ye ısıtabilecek ve %5 oranında düzgünsüzlük ile kaplayabilmektedir.
In-Situ
İki kanal, in-situ kalınlık ölçer mevcuttur.
Teknik Özellikler
Taban Basınç
1×10-7Torr
Saçtırma Tabancası
Eşzamanlı 3×2″
Dönüş Hızı
3-30RPM
Isıtma Seviyesi
600°C
Güç Kaynağı
300W’lık 2xRF güç kaynağı, 1500 Watt 1xDC
Düzgünsüzlük
%5
